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高纯度溅射靶材是干什么用的?

高纯度溅射靶材是干什么用的?

溅射靶材的用途

1、微电子领域

在各种应用产业中,半导体产业对于靶材溅射薄膜的品质要求是很苛刻的,比如硅片厂家的要求是高纯度、大尺寸、细晶粒和低偏析,所以这就要求靶材需要有更好的微观结构。

2、显示器

近年来平面显示器大幅冲击以阴极射线管为主的电脑显示器及电视,所以也带动了靶材的技术及市场需求。目前平面显示器的薄膜多采用溅射成形。溅射用靶材主要有In2O3、SnO2、MgO、w、Mo、Ni、Cu、Cr等。 3、存储用

根据储存技术的高密度、大容量硬盘的发展,就需要大量的巨磁阻薄膜材料,一般在信息存储行业中使用溅射靶材制备的相关薄膜产品有硬盘、磁头光盘等。

当然溅射靶材的用途可不止这些,还可以应用于高温耐蚀、耐磨材料、装饰用品等行业,利用溅射靶材制备的各种类型的溅射薄膜材料无论在半导体集成电路、太阳能光伏、记录介质、平面显示以及工件表面涂层等方面都得到了广泛的应用。